4 ιντσών 6 ιντσών LNOI Wafers για συμπαγή και υψηλής απόδοσης οπτική επικοινωνία

4 ίντσες 6- Ένα εκατοστό.Τα Wafers της LNOI είναι η τέλεια επιλογή για συμπαγή και υψηλής απόδοσης οπτική επικοινωνία

- Δεν ξέρω.Επαναστασία στη Φωτονική με Wafers LNOI Ultra-Low-Loss- Δεν ξέρω.

- Δεν ξέρω.Πλατφόρμα νέας γενιάς νιοβατικού λιθίου σε μονωτή (LNOI)- Δεν ξέρω.
Αποκλείστε πρωτοφανείς επιδόσεις στην ολοκληρωμένη φωτονική με τα αιχμηρά μας πλακάκια LNOI, σχεδιασμένα για εξαιρετικά χαμηλή οπτική απώλεια και υπο-νανομετρική τραχύτητα επιφάνειας.Συνδυασμός στεχυομετρικών λεπτών ταινιών LiNbO3 με θερμικά οξειδωμένα SiO2 θαμμένα στρώματαΤα δισκία μας παραδίδουν.> 30 φορές υψηλότερη μη γραμμική απόδοσηαπό τους συμβατικούς χύρους χύδην, επιτρέποντας παράλληλα κατασκευή συμβατή με το CMOS.

Κύρια πλεονεκτήματα
✓ Πρωτοποριακές επιδόσεις EO: επίτευξη εύρους ζώνης διαμόρφωσης >100 GHz με r33 >30 pm/V, ιδανικό για συνεκτικούς δέκτες 800G/1.6T.
✓ Κβαντική έτοιμη ακρίβεια: Προσαρμοσμένη περιοδική ανάλυση (PPLN) με σφάλμα πεδίου <5 nm για την παραγωγή μπλεγμένων φωτονίων.
✓ Σχεδιασμός ανθεκτικός στην ενέργεια: Αντιστέκει σε οπτική ένταση > 10 MW/cm2 (πιστοποιημένη Telcordia GR-468).

Εφαρμογές
▷ 5G/6G υπερ-συγκεντρωτικοί διαμορφωτές EO
▷ Τοπολογικά φωτονικά κυκλώματα και οπτική υπολογιστική
▷ Μετατροπείς κβαντικών συχνοτήτων (C/L ζώνη σε ζώνη τηλεπικοινωνιών)
▷ Φωτοανιχνευτές LiDAR υψηλής ευαισθησίας

Τεχνικές προδιαγραφές
• Μέγεθος πλακέτας: 100/150 mm διάμετρος (προσαρμόσιμη από 2" έως 6")
• στρώμα LiNbO3: X-cut/Z-cut, πάχος 300±5 nm (πρότυπο)
• Ενταφιασμένο οξύ: 1-3 μm SiO2, τάση διάσπασης > 200 V/μm
• Υποστρώμα: Σι υψηλής αντίστασης (> 5 kΩ·cm)